2024-10-18 09:28:33
浏览:

关于我们

展会亮点
1
展品展示:

生长面积的扩容:
新10kw 90mm直径沉积面积MPCVD设备:相比传统设备,我们的新设备将沉积直径提升至90mm,实现了生长面积的显著扩容。15kw 100mm沉积面积MPCVD设备:作为旗舰产品,其沉积直径更是达到了100mm,是目前市场上最大的沉积面积之一,为大规模工业化生产提供了坚实的基础。
温度均匀性提升:
我们采用先进温控技术精细调控MPCVD设备内温度,确保沉积区温度均匀,提升金刚石质量,减少缺陷和应力。
良品率显著提升:
通过优化设备结构和工艺参数,我们成功地将良品率提升至新的高度。无论是10kw还是15kw设备,其良品率均远超同类产品,为客户带来了更高的经济效益。
生长数量激增:
生长速度加快:
我们对MPCVD设备的微波功率进行了优化,使得金刚石的生长速度得到了显著提升。10kw设备在保持高质量的同时,生长速度较传统设备有了明显加快;而15kw设备则更是以惊人的速度生长出大尺寸、高质量的金刚石单晶片。
[ 文字部分滑动 ]

2
技术交流:

3
商务洽谈:

展位信息

展会针对金刚石及其功能化应用主题、半导体超精密加工设置10000㎡专题展区,将展示最新金刚石晶圆、量子钻石、热沉金刚石等功能化产品及相关器件,欢迎莅临现场交流、合作。
·
再次感谢您的关注与支持!
期待在Carbontech 2024上与您不见不散!
时间:2024/12/05-07
展位号:W1010
地点:上海新国际博览中心

MPCVD 单晶金刚石晶片:从气相沉积到成品晶片完整加工流程解析
MPCVD微波等离子体化学气相沉积技术,是目前制备高品质单晶金刚石晶片的核心工艺,凭借低缺陷、高纯度、大尺寸可控的优势,广泛应用于半导体散热、精密光学、高端传感器等领域。单晶金刚石晶片的成品品质,取决于从气相沉积生长到后道精密加工的全流程管控,每一道工序的精度把控,都直接决定晶片的平整度、透光性、导热性与使用寿命。本文完整拆解MPCVD单晶金刚石晶片从原料沉积到成品交付的全加工链路。
大单晶还是多晶?金刚石未来的应用方向值得讨论
随着金刚石逐渐进入半导体、热管理、光学、高功率电子以及精密加工等领域,市场对金刚石材料的尺寸、质量和加工能力也提出了更高的要求。 一个值得讨论的问题是:未来的大尺寸金刚石应用,大单晶和多晶哪一种更有潜力?
金刚石抛磨工艺:核心难点与产业挑战
金刚石被誉为 “终极材料”—— 莫氏硬度 10 级、超高热导率(约 2200 W/(m・K))、优异的化学稳定性和广谱透光性,使其在半导体散热、高端光学器件、量子芯片等前沿领域不可替代。然而,“好材料难加工” 这一悖论在金刚石身上体现得淋漓尽致。抛磨工艺从粗磨找平到原子级精抛,每一步都面临精度、效率与损伤控制的多重博弈。
单晶与多晶CVD金刚石,真正的工艺差异不在设备,在生长逻辑
单晶与多晶CVD金刚石是生长机理、晶格结构、性能体系完全独立的两种功能性新材料,二者的工艺逻辑、产品特性、应用边界从沉积生长之初就已彻底分化。脱离底层晶体结构的对比与选型,极易造成高端场景材料错配、量产场景性能高估等问题,制约产品应用价值落地。