如何判断MPCVD钻石生长设备的质量

高投入产出比是考量一个公司的设备质量的唯一标准。

在目前的市场上的CVD钻石生长设备主要为2450 Hz的圆柱腔和碟形腔，还有915 Hz.

圆柱腔大多为6KW, 8KW的微波源。由于圆柱腔的物理极限，产能过低，在培育钻石的价格逐渐降低的市场环境下，逐渐被淘汰。

915 Hz的机器由于不诚实，且耗电量巨大，目前还未成为市场的主流，仍处于研发中的状态。

碟形腔的MPCVD钻石机器主要有10KW, 12KW, 15KW，区别在于能量的大小，和微波等离子体的覆盖面积。现10KW及以上的碟形腔MPCVD机器为能盈利的市场常见设备。

以佛山市海光智能科技有限公司（以下简称“海光”）的10KW碟形腔MP CVD设备举例，如何获得高的投入产出比？

投入，分为固定资产和日常运维费用。固定资产有工厂及装修，气路、水路、恒温恒湿系统等，海光可为客户提供最佳的配套设施配比，让配套机器和系统发挥最大的作用，在花费最低成本的情况下。日常运维一般为电费、人员工资及其他。

产出，受到腔体可均匀生长面积、良品率、生产产品规划的影响。

那MPCVD设备如何带来高产出？

1. 火球，覆盖面积广，能量分布均匀。火球中心温度与周边温度温差小。

2. 腔体内的水冷系统工作良好，冷水系统工作时，钼片温度统一性高。

3. 系统稳定。软件系统是否为该设备工厂自主研发？软件系统和设备的硬件系统匹配度高吗？单次稳定的运行时间是多次？

为了保证以上系统的高效工作，海光积极研发、专注开发，目前已获得20多个专利。尤其是解决了碟形腔密封性差的问题，仅腔体设计，就有6个专利。

（证书：https://www.highlight-it.com/cn/Product/599138.html）

4.机器和配方的适配度高，将钻石质量控制在预期想要的范围内。以珠宝级纯生长色DEF，VVS-VS净度的毛坯钻石的质量标准为例，将良品率由以前的70%提升到80%以上，颜色精准地控制在DEF色的范围内。钻石生长配方的精密化，可以提高钻石的良品率和满足客户多样化的需求。比如用于珠宝级DEF色无改色的钻石，GHI用于改色的钻石，半导体级散热金刚石片、半导体级超薄单晶片、光学级高透光率的钻石窗口片，光学级超薄片，医学级刀具片等。

除了CVD钻石设备本身，激光切割等配套设施的应用也能提升产能、降低生产成本。海光和多家激光切割设备公司合作，共同研发，使激光在切割工作中降低损耗，减少钻石的生长时间；在激光切割后，表面粗糙度Ra达到百纳米级，无需抛光表面即可让CVD钻石晶种直接放入腔体生长；精密的激光切割，可做到超薄片近10微米的厚度等。

另外，MPCVD设备工厂也需要提供钻石生长工厂的配套设施，水冷系统等的技术方案，以达到所有设施统一配合，达到最佳生产状态。

工程师的培训也包含在技术方案内，工程师精准控制钻石生长情况，发挥主观能动性，在钻石生长出现问题时，即使调整，提升良品率，并不断学习研究，提升配方性能等，顺应市场的变化与发展。

综上，一炉钻石被高效率低成本地生长出来，不仅仅只是培育钻石机器的事。一台机器的质量判断，更不可能靠各个配件是否进口的质量来决定，合适与匹配才是最优解。